目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>CVD氣相沉積系統>> CY-CVD1200-50-220×220-4TH-Q全自動CVD滑軌爐
全自動CVD滑軌爐設備操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。
適用于高校、科研院所、工礦企業做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。
全自動CVD滑軌爐技術參數：
| 項目 | 明細 |
| 供電電壓 | AC220V，50Hz |
| 整機功率 | 5KW |
| 工作溫度 | ≤1100℃ |
| 加熱速率 | 建議10℃/min |
| 爐管尺寸 | O.D.50mm-220mm-220mm（加熱區）-1200mm管長 |
| 控溫精度 | 0.1℃ |
| 溫區 | 雙溫區 |
| 混氣系統 | 4路質子流量計：100sccm1個；200sccm1個；500sccm2個 |
| 真空泵 | 雙極旋片真空泵 |
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