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鋨等離子鍍膜儀可實現(xiàn)自動化操作
閱讀：364 發(fā)布時間：2022-4-1
鋨等離子鍍膜儀是一種基于直流輝光放電的等離子鍍膜設備。可以實現(xiàn)自動化操作，用于給SEM、FE-SEM樣品鍍導電薄膜或是給TEM樣品鍍支持膜。鍍膜厚度從幾納米到幾百納米，甚至是1納米以下的超薄膜。OPC采用了全新的四yang化鋨氣體PCVD方式獲得鋨膜。不同于傳統(tǒng)的濺射和蒸鍍，OPC很好地解決了薄膜的顆粒及熱損傷問題。
等離子鍍膜設備是一種小型射頻（RF）等離子磁控濺射鍍膜儀器系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括所有必需的配件，如300W（13.5mhz）射頻電源、2"磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。它是制作一些金屬和非金屬的又好又便宜的實驗幫手。
在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評價薄膜樣品的性能時，需要對薄膜樣品在不同厚度下的性能進行測試。等離子鍍膜設備集成了真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，可在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā)，并將蒸發(fā)后的樣品在手套內的高純惰性氣體氣氛中儲存、制備和檢測盒子。蒸發(fā)鍍膜與手套箱相結合，實現(xiàn)了蒸發(fā)、封裝、測試等過程的全封閉生產(chǎn)，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個環(huán)境氣氛可控的完整系統(tǒng)中，消除了不穩(wěn)定因素的影響。有機大面積電路制備過程中的大氣環(huán)境因素，保證了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備。
設備性能：
1、自動化控制，鍍膜時只需設定薄膜厚度，鍍膜過程自動完成；
2、鋨存儲器可拆卸：具有密封式結構，可冷凍保存；
3、鍍膜時間短：只需幾秒鐘膜厚就可以達到納米級；
4、裝有互鎖回路：一但OsO4氣體進入腔體，真空不達標，腔體就無法打開；
鋨等離子鍍膜儀的應用：
SEM、FE-SEM樣品鍍導電膜
TEM（FIB）樣品鍍保護膜
AFM樣品鍍保護膜
STM樣品鍍保護膜以及導電膜
TEM樣品鍍支持膜