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合肥重光電子科技有限公司
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CG-P200-8寸等離子清洗機
  • CG-P200-8寸等離子清洗機
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貨物所在地:安徽合肥市

更新時間:2025-03-22 17:30:20

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產品介紹

所謂的等離子清洗機,就是用等離子體通過化學或物理作用時對工件表面 進行處理,實現分子水平的污漬、沾污去除,并提高表面活性的工藝。但是常 規等離子體清洗過程中,待清洗的工件處于等離子體離化區域中,清洗過程中 伴隨著物理清洗過程,等離子體中電子、離子等高能活性離子對材料表面會產生很大的損傷和熱效應,造成對半導體晶片、基板的損傷。
等離子體清洗設備作為一種精密干法清洗設備,應用于半導體、厚膜

主要技術參數

1 設備外觀:噴塑處理

外形尺寸:720(寬)×620(高)×600(深)不含機械泵

2 反應倉材質:不銹鋼、反應倉尺寸:250(寬)×200(高)×250(深)

3 等離子體頻率:13.56MHz

4 射頻電源功率:0-300W 可調

5 設備功率:≤1kW

6 控制方式:

等離子清洗機采用包括觸摸屏人機界面的 PLC 控制,操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數按照配方方式管理,可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應配方號調出即可。設備參數分級管理,設備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數,提高設備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

7 MFC 質量流量計控制(標準配置2路)

8 氣體流量:

工藝氣體(氧、氬等): (0~200)ml/min  (標準氣壓,0℃)

9 工作氣體(標配為氧、氬)接口壓力:0.1MPa  (若需其它氣體需作聲

明)凈化冷卻氣體(氮氣)接口壓力:0.5MPa

10 設備工作節拍:空運轉單次清洗時間≤5min

11 設備MES兼容接口:設備通過數據網絡將工藝參數傳輸至MES平臺


更多選擇可咨詢,如4寸等離子清洗機、多層等離子清洗機。



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