手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號(hào)：chem17
掃碼關(guān)注視頻號(hào)
DLW-RD-Photonics是一款專為光子芯片集成領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高性能激光直寫設(shè)備，擁有高精度納米級(jí)3D加工能力與高精度定位對(duì)準(zhǔn)能力。設(shè)備配備高精度的共聚焦掃描系統(tǒng)和熒光探測(cè)系統(tǒng)，確保在光子芯片表面精確對(duì)準(zhǔn)3D打印。Nanostudio軟件配備功率補(bǔ)償功能，可實(shí)現(xiàn)在芯片端面的高精度加工，消除聚焦遮擋區(qū)域的影響，為光子芯片集成領(lǐng)域的微細(xì)結(jié)構(gòu)提供精準(zhǔn)打印。
制作光刻版的工藝流程：
a、繪制版圖文件；
b、轉(zhuǎn)圖，生成設(shè)備可曝光的文件格式，曝光圖形；
c、顯影，露出鉻層；
d、蝕刻，使用Cr蝕刻液濕法腐蝕；
e、使用濕法去除光刻掩膜版上的光刻膠層，并清洗甩干。
常見繪圖錯(cuò)誤：
a、無填充；
b、圖形不封閉、
c、有多余線段；
d、字符無寬度；
e、圖形合并錯(cuò)誤；
f、隱藏圖層；
g、弧線不圓滑；
h、圓形圖案曝光出錯(cuò)；
I、文件數(shù)據(jù)量過大等，都會(huì)造成圖檔轉(zhuǎn)換失敗，或者圖檔雖然轉(zhuǎn)換成功，但是設(shè)備有一定幾率發(fā)生錯(cuò)誤曝光，導(dǎo)致制版失敗、甚至造成設(shè)備電腦死機(jī)等嚴(yán)重問題，為避免問題的發(fā)生概率，請(qǐng)認(rèn)真學(xué)習(xí)軟件的使用規(guī)則和版圖設(shè)計(jì)要求。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí)，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購(gòu)中心