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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機>DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機

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DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 STELLA/海德堡儀器
  • 型號 DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
  • 產地
  • 廠商性質 經銷商
  • 更新時間 2025/6/5 16:35:30
  • 訪問次數 545
產品標簽

灰度光刻

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

寫入模式第二第三V
寫作性能 - 灰度




覆蓋層 [3σ, nm](超過 8“ x 8”)

300

像素網格灰度 [nm]1002002505001000
寫入速度 DWL 2000 GS [mm2/分鐘]125075270870
寫入速度 DWL 4000 GS [mm2/分鐘]1250752701000
暴露時間 DWL 2000 GS:適用于 200 mm x 200 mm [小時]5113.592.50.8
曝光時間 DWL 4000 GS:適用于 400 mm x 400 mm [小時]2235436103
最大劑量 [mJ/cm2 ]5600140090022550






寫入性能 - 二進制




最小特征尺寸 [μm]0.50.70.812
最小行數和間距 [μm]0.70.911.53
地址網格 [nm]51012.52550
邊緣粗糙度 [3σ, nm]40506080110
CD均勻度 [3σ, nm]607080130180
注冊 [3σ, nm]200200200200200
寫入速度 [mm2/minute] DWL 2000 GS125075270870
寫入速度 [mm2/minute] DWL 4000 GS1250752701000
系統特點
光源405 nm 的二極管激光器
最大基板尺寸DWL 2000 GS:9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS:17 英寸 x 17 英寸
基板厚度0 至 12 mm
最大曝光面積DWL 2000 GS:200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS:400 x 400 平方毫米
溫控流量箱溫度穩定性 ± 0.1°,ISO 4 環境
實時自動對焦光學自動對焦或氣壓計自動對焦
自動對焦補償范圍80微米


系統尺寸
光刻單元 (寬度×深度×高度);重量2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克
電子架 (寬度×深度×高度);重量800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克


安裝要求
電氣400 VAC ± 5 %, 50/60 赫茲, 16 A
壓縮空氣6 - 10 巴
潔凈室建議使用 ISO 6 或更高






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