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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>NEXDEP Angstrom物理沉積系統

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NEXDEP Angstrom物理沉積系統

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上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發儀器及設備的供應商,所銷售的儀器設備廣泛用于高校、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設立分公司和辦事處,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結爐;  - 電子束蒸發鍍膜機,熱蒸發鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統,等離子增強原子層沉積設備;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統; - 光學膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統-PLD-納米壓印;-等離子清洗機、去膠機;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發機,化學沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業客戶:華為技術有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體, 蘇州稀晶半導體科技, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學, 汕頭大學, 南方醫科大學, 清華大學, 北京大學, 復旦大學, 西北工業大學, 南京醫科大學, 香港中文大學, 香港城市大學, 蘇州大學, 深圳職業技術學院, 南京大學合肥國家試驗室, 上海交通大學醫學院, 華南理工大學,華東師范大學,江南大學,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學, 深圳技術大學, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農業協同創新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導體設備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

產品概述:

      物理氣相沉積(PVD)平臺是一種在真空環境中,通過物理方法將固體或液體材料源表面氣化成氣態原子、分子或離子,并沉積在基體表面形成具有特定功能的薄膜的設備。PVD平臺通常包括真空系統、加熱系統、氣體控制系統、沉積室、基體支撐及驅動系統等部分。AE物理氣相沉積平臺可能集成了這些關鍵技術組件,以提供高效、精確的薄膜沉積解決方案。

設備用途:

  AE物理氣相沉積平臺的主要用途包括:

  1. 表面改性:通過沉積耐磨、耐腐蝕、導電、絕緣、潤滑等特性的薄膜,改善基體材料的表面性能。

  2. 功能薄膜制備:制備具有光導、壓電、磁性、超導等功能的薄膜,應用于電子、光學、傳感器等領域。

  3. 裝飾和保護:在高檔手表、珠寶、建筑材料等表面沉積金屬或合金薄膜,提供美觀和防腐蝕保護。

  4. 微納加工:在微電子、半導體、納米技術等領域,制備高精度、高質量的薄膜結構。

設備特點

  高精度和均勻性:通過精確控制沉積參數,如溫度、壓力、氣體流量等,實現薄膜的高精度和均勻性沉積。

  多功能性:支持多種PVD技術,如真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜等,滿足不同應用需求。

  環保和節能:在真空環境中進行沉積,減少環境污染;采用高效能源利用技術,降低能耗。

  自動化和智能化:集成計算機控制系統,實現自動化操作和智能化監控,提高生產效率和產品質量。

 

Angstrom Engineering  Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統,以下是其一些技術特點和應用:
技術參數和特點:

不同型號的 Nexdep PVD 設備可能在具體技術指標上存在差異,如果你想了解更詳細的信息,可以參考相關產品手冊或直接聯系 Angstrom Engineering 公司。此外,天津大學大型儀器管理平臺和一些采購公告中也有 Nexdep PVD 設備的具體參數信息,例如:

1,腔室尺寸為 400mm(長)×400mm(寬)×500mm(高),帶有可拆卸的不銹鋼內襯;前門為移門,后門為鉸鏈式結構,采用 O 型圈密封;腔室門集成觀察窗并帶有防沉積裝置。

2,真空系統方面,前級泵采用油泵,抽速不低于 9cfm;主泵采用分子泵,抽速不低于 685L/s;配備 Inficon MPG400 真空規,測量范圍從3.75e-9torr 到大氣;在潔凈、干燥環境下,極限抽真空優于 5e-7torr

3,蒸鍍系統配備 1 套熱阻金屬蒸發源和 1 個蒸發源電源控制器,熱阻蒸發源電源功率可達 2.5kW,采用可控硅電源控制器。

4,膜厚檢測系統配備 1 個膜厚檢測探頭,帶有水冷功能以提高檢測準確性,探頭安裝在剛性支架上防止碰撞影響精度。

5,樣品臺可裝載直徑為 150mm 的樣品,兼容小尺寸樣片,帶旋轉功能,轉速 10-30rpm 可調;系統配備自動控制模式的蒸發源擋板和開合式樣品臺擋板。





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