CY-MSH300-III-RFRFRF-SS 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CY-MSH300-III-RFRFRF-SS
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/7/31 9:04:00
- 訪問(wèn)次數(shù) 34
聯(lián)系方式:張經(jīng)理13938563701 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
CY-MSP300S-3RF三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)為我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀,設(shè)備可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。
設(shè)備經(jīng)過(guò)緊湊化設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機(jī)均采用觸控屏控制,內(nèi)置一鍵式鍍膜程序,操作簡(jiǎn)單易上手,是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。
技術(shù)參數(shù):
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH300-III-RFRFRF-SS | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 4KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 尺寸 | φ140mm |
控溫精度 | ±1℃ | |
加熱溫度 | *高500℃ | |
轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm可調(diào) | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2” x3 (1”,2”可選) |
水冷機(jī)規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) | |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Dia.300mm×300mm |
觀察窗口 | φ100mm | |
開(kāi)啟方式 | 上頂開(kāi)式 | |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
質(zhì)量流量計(jì) | 2路;量程100sccm;100sccm(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路) | |
真空系統(tǒng)
| 產(chǎn)品型號(hào) | CY-GZK103-A |
抽氣接口 | CF160 | |
分子泵 | CY-600 | |
排氣接口 | KF40 | |
前極泵 | 旋片泵 | |
真空測(cè)量 | 復(fù)合真空計(jì) | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵:600L/S 旋片泵:1.1L/S 綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達(dá): 1.0E-3Pa | |
電源配置 | 數(shù)量 | 射頻電源 x3 |
*大輸出功率 | 射頻電源500W | |
膜厚測(cè)量 | 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
整機(jī)尺寸 | 600mm X 650mm X 1280mm | |
整機(jī)重量 | 300kg |
相關(guān)分類
該廠商的其他產(chǎn)品
- CY-MSZ180-I-DC-SS? 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀
- CY-MSZ180-I-DC-SS? 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀
- CY-MSH300-III-DCDCRF-SS 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀
- CY-MSH300-III-DCDCRF-SS? 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)
- CY-MSH300-III-DCDCDC-SS 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)
- CY-MSV325- II-DCRF-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙膜厚儀)
- CY-MSV325- II-DCDC-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)
- CY-MSH300- II-RFRF-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)