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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>CY-EVZ254- III-H-SS 桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀

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CY-EVZ254- III-H-SS 桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀

參考價 86000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌 CYKY
  • 型號 CY-EVZ254- III-H-SS
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/8/15 15:59:07
  • 訪問次數(shù) 53

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結(jié)設備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內(nèi)外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務洽談。






磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
應用領域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜

本產(chǎn)品為專為高真空設計的桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀,可提供*大150A的鍍膜電流,*大蒸發(fā)溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作,出廠經(jīng)過除氣處理,配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空,能夠滿足絕大部分材料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。真空腔體采用前開門開啟方式,便于取放樣,腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗,用于觀察鍍膜過程,擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染.

桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀產(chǎn)品特點:

高純度薄膜:由于在高真空條件下進行,減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞,從而能夠制備出高純度的薄膜。
**控制:蒸發(fā)鍍膜技術允許對薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進行**控制,這在許多高精度應用中至關重要。
適用多種材料:蒸發(fā)鍍膜技術可以用于多種材料,包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機材料等。
高沉積速率:特別是使用電子束蒸發(fā)時,由于高能量的電子束能夠快速加熱材料,可以實現(xiàn)高沉積速率。
均勻性:通過適當?shù)墓に噮?shù)調(diào)整,可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷:由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上,對基底的熱影響較小,適用于熱敏材料的薄膜沉積。

技術參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-EVZ254- III-H-SS

真空腔體

腔體材質(zhì)

304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理

取放模式

前開門方式取放樣品和蒸鍍材料

觀察窗

直徑80mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染

樣品臺

樣品尺寸

100mm

旋轉(zhuǎn)速度

0-20RPM

加熱溫度

300

蒸發(fā)系統(tǒng)

蒸發(fā)源

塢舟3

鍍膜方式

熱蒸發(fā)鍍膜

真空系統(tǒng)

抽氣接口:KF25/40, 排氣接口: KF16

復合真空計

前級泵

旋片泵  抽速: 1.1L/S

分子泵

抽速: 60L/S (大阪分子泵)

膜厚測量

通常配CYKY膜厚測量儀

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2KW

外形尺寸

710mm X 480mm X690mm

包裝重量

70 KG




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