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納米壓印膠 mr-NIL212FC 系列——專為高精度、高效率軟紫外納米壓印設計的革命性材料

產品核心優勢

mr-NIL212FC 是 micro resist technology 公司專為 軟紫外納米壓印（Soft UV-NIL） 開發的液態光固化膠，結合 快速固化（FC）技術 與Excellence的刻蝕穩定性，為高難度基材（如 SiO? 等氧化物）的圖案轉移提供了一站式解決方案。其核心亮點包括：

l閃電固化：即使面對 200 nm 以下微納結構，也能在低強度紫外光源（320–420 nm）下快速完成固化，顯著提升生產效率。

lSuper strong刻蝕耐受性：相比常規型號 mr-NIL210，對 O? 等離子體及鹵素基刻蝕的穩定性提升 30% 以上，是硬質基材圖案轉移的理想掩模。

l廣譜兼容性：Perfect適配 PDMS 類彈性印章（推薦 Shin-Etsu KER-4690），同時支持 PFPE、COC 等軟質印章，以及石英、鎳等硬質印章（需搭配防粘層 F13-TCS）。

為什么選擇 mr-NIL212FC？

? 即用型配方：開瓶即用，通過 3000 rpm 旋涂 30 秒 即可獲得 100/200/300 nm 精準膜厚（公差±15 nm），預烘烤僅需 60°C/3 分鐘，大幅簡化流程。
? 工藝靈活性：

l支持 紫外汞燈 或 365–405 nm LED 光源，推薦曝光劑量 >1 J/cm2。

l可選 后烘烤（100°C/1 分鐘） 進一步提升刻蝕性能。

? 工業級可靠性：與 OpTool GMN 系列印章兼容，適合量產環境（HVM），壓印壓力 <100 mbar，缺陷率極低。

典型應用場景

l半導體先進制程：高深寬比納米線、光子晶體的批量制造。

l光學器件：AR/VR 衍射光柵、微透鏡陣列的高保真圖案化。

lMEMS/傳感器：復雜三維結構的低成本快速原型開發。

技術參數速覽

用戶友好設計

l基材適配：硅、藍寶石、玻璃等基材均可直接使用，推薦搭配底涂劑 mr-APS1 或 Omnicoat 以增強附著力。

l后處理簡便：殘余層可通過 O? 等離子體 快速清除，剝離選用 熱硫酸（Piranha） 或超聲輔助溶劑（PGMEA）。

l安全環保：無鹵素配方，存儲條件寬松（15–25°C），保質期 6 個月。