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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | 面議 |
更新時間：2025-07-02 15:14:59瀏覽次數：182
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——來自德國 micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業先驅
? Excellence的薄膜質量 | ? 高保真圖案復制 | ? 優異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業級安全標準（ISO 9001 & 14001）
應用領域：
l光子學（超表面、光柵、AR/VR）
l下一代電子器件（納米線、MEMS）
l生命科學與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）
產品型號 | 核心特性 | 適用場景 |
mr-NIL210 | 專為 PDMS 類柔性印章優化，極薄殘膠控制（<10nm），高均勻性 | 柔性基底、曲面壓印、快速量產 |
mr-NIL212FC | 兼容低強度光源（<40>2（SiO?），適合精密金屬蝕刻 | 納米電子、金屬納米結構制造 |
mr-NIL200 | 自粘附配方，無需底涂，專為硬質印章（石英/OrmoStamp®）設計 | 高精度光學元件、硬質基底壓印 |
mr-UVCuF26SF | 溶劑型噴墨專用，低自發熒光，生物相容性佳 | 生物芯片、醫療器件 |
| mr-I 9000M | 熱固性樹脂，無玻璃化轉變溫度（Tg），耐高溫 260°C，yongjiu光學透明 | 高溫環境應用（如封裝、光學透鏡） |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料，耐酸堿/有機溶劑，超高紫外透過率 | 微流控芯片、透明器件 |
NIL + 深度刻蝕：通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實現高深寬比結構放大。
