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等離子清洗機真空泵

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更新時間：2025-06-06 21:00:06

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Thin Film薄膜沉積系統: 高密度化學氣相沉積系統 PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

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JFP microtechnic/法國: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI/美國: Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統 MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計太陽能電池高性能測試夾具太陽能功率計集成式 IV 光伏測試系統 AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

Unitemp/德國: RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統 2Z-HVS-200 高真空封裝機 2Z-HVS-100 高真空封裝機 VSS-650 真空焊接系統 RSS-3X210 緊湊型回流焊系統 RSO-300 真空燒結爐回流焊系統 RSO-210 真空燒結爐回流焊系統 VSS-450-300 臺式真空燒結爐 RSS-210-S 臺式真空燒結爐回流焊系統 RSS-110-S 迷你真空燒結爐回流焊系統 RSS-160-S 迷你真空燒結爐回流焊系統

NanoMagnetics/英國: USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動樣品磁力計 LT-AC/DC 臺式霍爾效應測量系統 XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡光霍爾效應測試儀納秒瞬態吸收光譜儀

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產品簡介詳細介紹

等離子清洗機真空泵廠家提供詳細的特點,應用信息。

　　等離子清洗機真空泵由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空腔休、機械等幾個部分組成，可以根據客戶的特殊要求定制符合客戶需要的真空系統，真空室。等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等。等離子清洗機真空泵可選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發生器，以適應不同的清洗效率和清洗效果需要。

　　主要特點:

　　1.半導體工業用真空泵和系統.

　　2.科研儀器,真空加工用途真空泵和系統.

　　3.排氣控制.污水處理系統,氣體處理系統.

　　儀器介紹:

　　1.半導體工業用真空泵和系統.

　　2.科研儀器,真空加工用途真空泵和系統.

　　3.排氣控制.污水處理系統,氣體處理系統.

　　4.油封旋葉泵.

　　廣泛應用于表面去油及清洗等離子刻蝕，聚四氟（PTFE）及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序，因此又應用于汽車電子領域、*電子領域、PCB制成行業等高精密度領域。

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