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德國韋氏納米系統有限公司

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濕法刻蝕系統

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更新時間：2025-06-06 21:00:06

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KLA/科磊: 方塊電阻測量儀薄膜厚度測量儀表面缺陷檢測系統納米壓痕儀光學輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測量系統: 接觸角測量系統光譜反射儀橢偏儀薄膜應力測量系統

微組裝系統: WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統: AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統: 批量型兆聲清洗系統

測量儀器: 聲表面波SAW功率發生器

ECOPIA/韓國: HMS-3300霍爾效應測試儀 HMS-3000霍爾效應測試儀

Etching/等離子蝕刻系統: 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統: 高密度化學氣相沉積系統 PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統: 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺: 磁體探針臺低溫探針臺

紫外掩膜對準曝光系統: 紫外掩膜對準曝光系統紫外掩膜曝光機

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學: 人體運動能耗監測儀

PIE scientific/美國: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic/法國: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI/美國: Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統 MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計太陽能電池高性能測試夾具太陽能功率計集成式 IV 光伏測試系統 AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

Unitemp/德國: RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統 2Z-HVS-200 高真空封裝機 2Z-HVS-100 高真空封裝機 VSS-650 真空焊接系統 RSS-3X210 緊湊型回流焊系統 RSO-300 真空燒結爐回流焊系統 RSO-210 真空燒結爐回流焊系統 VSS-450-300 臺式真空燒結爐 RSS-210-S 臺式真空燒結爐回流焊系統 RSS-110-S 迷你真空燒結爐回流焊系統 RSS-160-S 迷你真空燒結爐回流焊系統

NanoMagnetics/英國: USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動樣品磁力計 LT-AC/DC 臺式霍爾效應測量系統 XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡光霍爾效應測試儀納秒瞬態吸收光譜儀

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機

EXADDON: CERES 微納米級純金屬3D打印系統

ANRIC: AT650/850T 臺式熱原子層沉積設備 AT650/850P 臺式等離子 ALD AT410 經濟型 ALD 系統 AT 200M 經濟型 ALD 系統

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產品簡介詳細介紹

濕法刻蝕系統廠家提供詳細的構造,特點信息。

　　濕法刻蝕系統的設備是由全白色聚丙烯構造，可內置任何旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以被配置成測試模塊構造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。

　　濕法刻蝕系統的設備特點：

　　● 全PP材質構造

　　● 可集成Laurell勻膠旋涂系統

　　● 有排孔的濕站操作臺 (易清潔)

　　● 特殊設計的濕站壓力系統Wet plenum

　　● 帶流量計的排液管道

　　● 各類組件的隔離設計（散熱原件，泵浦和壓力容器等）

　　的設備材料選擇：可以根據應用選擇更高級的材料；

　　● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標準應用在消防安全和潔凈空間等領域。CP5符合UL94 V-O 火災分類標準。它具有優良的平衡的物理性能，耐化學藥品性和耐火性。

　　● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui嚴格的FMRC 4910測試標準，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點和*燃燒。這種*進的材料也達到或超過產生低煙和zui小毒副產品的檢測標準。

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