簡單介紹：

全自動CVD滑軌爐系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；四路質子流量計能夠準確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。詳情介紹：

全自動CVD滑軌爐設備操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。

適用于高校、科研院所、工礦企業做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。

技術參數：

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