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目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>CVD氣相沉積系統>> CY-PECVD-240T-SS等離子增強化學氣相沉積設備

等離子增強化學氣相沉積設備

  • 等離子增強化學氣相沉積設備
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參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
60000
≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-PECVD-240T-SS
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

>

更新時間:2024-12-17 11:38:45瀏覽次數:154評價

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等離子增強化學氣相沉積設備采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜。
化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
主要功能及特點:
PECVD設備利用平板電容式輝光放電原理,將通入沉積室的工藝氣體解離并產生等離子體,被解離的基團在等離子體中重新發生化學反應,由于等離子體存在,促進氣體分子的分解、化合、激發和電離,促進反應活性基團的生成,從而降低沉積溫度,在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據工藝調節等離子體的密度和能量,控制薄膜的生長速率和微結構。
產品參數:


PECVD



產品名稱

桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD

產品型號

CY-PECVD-240T-SS

供電電源

AC220V 50Hz

射頻電源

信號頻率

13.56MHz

功率輸出范圍

0~500W (還可選擇150W, 300W, 1000W)

工作腔體

加熱溫度

RT-500℃(還可選擇600℃,800℃,1000℃等)

樣品臺尺寸

Φ100mm(兼容4英寸及以下樣品)

樣品臺轉速

1-20rpm 可調

腔體材質

不銹鋼

觀察窗

Φ60mm, 帶擋板

供氣系統

通道數

3 (可根據需要選擇其他通道數,其他氣體種類,其他測量范圍)

測量單位

質量流量計

測量范圍

A 通道: 0200SCCM for O2  

B通道: 0200SCCM for N2

C通道: 0200SCCM for Ar

真空系統

前級泵抽速

1.1L/s

分子泵抽速

60L/s

真空測量

復合真空計

真空度

5.0*10-3Pa

水冷機

水流速

10L/min

冷卻功率

50W/



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