磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,
本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀,樣品臺與靶面的角度可調,可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。
傾斜樣品臺式單靶磁控技術參數:
產品名稱 | 傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 | |
產品型號 | CY-MSZ180-60Q-I-DC-Q | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ60mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
可調轉速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X215mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統 | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復合真空計,量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s | |
電源配置 | 電源數量 | 直流電源一套 |
輸出功率 | 500W | |
其他參數 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機功率 | 2kW | |
整機尺寸 | 550mm X 350mm X400mm |
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