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勻膠顯影系統

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更新時間：2025-06-06 21:00:06

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微組裝系統: WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統: AT-400原子層沉積

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測量儀器: 聲表面波SAW功率發生器

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美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統: 等離子刻蝕ICP

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產品簡介詳細介紹

勻膠顯影系統廠家提供詳細的應用范圍,特點信息。

　　勻膠顯影系統的設備適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓(水)輥、涂膠槽等部分組成。

　　勻膠顯影系統的設備具有以下特點：

　　1. 電機勵磁和電樞分開供電。勵磁用12伏直流穩壓電源供電，電樞用運放控制IRF830調速，它比可控硅調速*，故其轉速在500—8000轉/分范圍內非常穩定。

　　2. 本勻膠機有兩檔轉速。在啟動之后，先以低速運轉，然后自動變到高速運轉。兩檔速度及運行時間分別可調。

　　3. 的勻膠機采用光電檢測，數字電路測速，對電機的轉速檢測快速準確。電機穩速方面采用了光電隔離的精密負反饋電路，使整機在高達8000RPM以上轉速時仍十分穩定，有力的保證了勻膠質量。

　　4. “吸片”采用電子開關控制電磁閥完成氣路通斷，這樣適合流水線工藝，一個氣泵可同時帶幾臺勻膠機工作，提高效率。

　　5. 勻膠機定時采用可調定時電路控制，面板上調節Timer旋鈕即可改變勻膠時間。

　　6. 在安裝結構上，采取了減震措施，因而勻膠機在運轉時噪音很低。

　　7. 電磁閥與電機運行有連鎖功能，電磁閥未動作不能啟動電機運行，本次勻膠電機未停不能進行下次勻膠，若運行中誤按“CONTROL”鍵也不能停止吸氣，即不會產生跑片。

　　的設備是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備，它可以實現價值百萬美元設備（track）的上才可能達到穩定性和均勻性。

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