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1700℃箱式二氧化鋯燒結爐 參考價:面議
該箱式氧化鋯燒結爐主要用于二氧化鋯牙冠的結晶燒結。采用1800純凈型加熱元件。雙面加熱,配有專用排煙口,利于煙氣排放,防止牙冠污染。該箱式氧化鋯燒結爐造型簡潔,...1500℃單溫區φ60管式爐 參考價:面議
成越1500℃單溫區φ60管式爐可以用于抽真空和通氣氛,所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐,廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒...1500單溫區φ50真空管式爐 參考價:面議
該管式爐可以用于抽真空和通氣氛,所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐,廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材...管式氫氣爐 參考價:面議
該管式氫氣爐可以用于抽真空和通氣氛,所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。管式氫氣爐爐管材質采用無縫鎳基合金,爐管可用于所有惰性氣體和氧氣到30 PSI(磅力/平方英...雙溫區管式爐 參考價:面議
雙溫區管式爐設備由雙溫區管式爐、溫控蒸發器、濕度監測器三部分組成。溫控蒸發器和濕度監測器的組合可以持續產生符合試驗配比要求的水蒸氣,即通過觀察濕度監測器的示數,...1200℃管式爐 參考價:面議
1200℃管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件,zui高加熱溫度為1200℃,石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要,可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。1200℃管...三溫區管式爐 參考價:面議
三溫區管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件,加熱溫度可達1200℃,石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要,可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。本三溫區管式爐為三溫區...雙溫區管式爐 參考價:面議
雙溫區管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件,加熱溫度可達1200℃,石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要,可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。雙溫區管式爐為雙溫區加...滑道管式爐 參考價:面議
該滑道管式爐由爐體和軌道支架部分組成,同時可搭配進氣系統和真空裝置組成CVD系統。滑道管式爐默認為600mm長的單溫區設計,可以形成較長的恒溫區域,也可定制為雙...1200 °C高真空鎳基合金三溫區管式爐 參考價:面議
三溫區管式爐采用鎳基合金作為加熱元件,加熱溫度可達1200℃,石英爐管管徑為100mm。若客戶有需要,可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。本三溫區管式爐為三溫區加...帶磁力推桿雙溫區管式爐 參考價:面議
本雙溫區管式爐,配有磁力推桿,結構精巧可靠性高,可在保持爐管真空密閉的情況下對管內樣品進行位移操作。配合雙溫區分別控溫,可以實現用戶的多種熱處理工藝,是材料研究...三溫區管式爐 參考價:面議
三溫區管式爐,爐膛*高溫度可達1200℃,采用進口電阻絲加熱,溫場均勻控溫**。爐管采用316不銹鋼制成,兩側使用定制法蘭配合水冷組件,可滿足客戶向管內通入液體...感應熱重分析爐 參考價:面議
這是一個具有TGA熱重分析)功能的立式管式爐,*高溫度從1200°C到1600°C(可定制)。與傳統的TGA裝置相比,可裝載100 g以上的樣品,為工業生產提供...1200℃10L高溫惰性箱式氣氛爐 參考價:面議
氣氛馬弗爐設計用于可控惰性氣體氣氛下的材料合成,*高溫度可達1200℃,溫度均勻性更好。采用上等氧化鋁纖維磚和進口電阻絲加熱元件,尺寸為200*200*200m...1200℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統 參考價:面議
1200℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫,可編輯30段升降溫程序,同時...1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統 參考價:面議
1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫,可編輯30段升降溫程序,同時...PECVD鍍膜儀 參考價:面議
CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅...單溫區旋轉PECVD石墨烯制備系統 參考價:面議
單溫區旋轉PECVD,安裝有真空自動投料器,爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料,可以以額定的速率將粉料送入爐管,投料速率可通過調節轉速來...卷對卷式PECVD 參考價:面議
卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中,如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處...等離子增強CVD系統 參考價:面議
等離子增強CVD系統由等離子發生器,三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的...等離子增強型CVD系統 參考價:面議
CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量計控制系統、性能優異的真空泵組成。桌面型二合一鍍膜儀 參考價:面議
本產品為二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備1200℃雙溫區3路質量供氣高真空CVD系統 參考價:面議
1200℃雙溫區3路質量供氣高真空CVD系統由雙溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫,通過調節各個溫區的溫度...1200℃三溫區3路浮子供氣高真空CVD系統 參考價:面議
1200℃三溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由三溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫,通過調節各個溫區的溫度...