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高溫老化箱 參考價:面議
高溫老化箱適用于整機或大型零部件的低溫、高溫、高低溫變化、恒定濕熱、高低溫交變濕熱試驗等步入式恒溫恒濕房 參考價:面議
步入式恒溫恒濕房用于工業產品進行濕熱試驗、高溫試驗、低溫試驗以及高低溫漸變試驗,具有極限溫濕度范圍廣,實際溫濕度精度高的特點,步入式試驗室,工作室大可供多種元器...區域提純爐 參考價:面議
該區域提純爐主由:高溫梯度爐、真空爐管、真空法蘭、電子真空計、質量流量計、分子泵組、直線導軌、速度控制器等重要部件構成。區域提純爐廣泛用于半導體鍺、硅提純還可以...便攜式毛發研磨儀 參考價:面議
便攜式毛發研磨儀是在水平方向上進行三維運動,對樣品進行研磨,適用于毛發、痰液、植物、食品、微生物等各種組織研磨超高純氫氣發生器用于培育鉆石 參考價:面議
超高純氫氣發生器運用且 **擁有的99% 鈦金屬質子交換膜(PEM) 技術, 將去離子水中的氫氣分離并提純,為CVD設備提 供超高純的氫氣氣源精密1200L氫氣發生器99.9999% 純度 參考價:面議
氫氣發生器旨在為需要氫燃料氣體的檢測器(如 FID)提供所需的氣體。一臺發生器能夠提供多個檢測器,并提供各種流量,以理想地滿足個別客戶的需求4面精密微米級制膜器 參考價:面議
4面精密微米級制膜器是一款精密的刮膜器,有4個面,每個面的涂覆厚度分別具有不同的涂膜厚度。該種制膜器主要有兩種寬度,一種為寬度100㎜制膜寬度為80㎜的制膜器。...膜厚監控儀 參考價:面議
適用于電阻蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等真空鍍膜厚度測量,通過觸摸屏和數碼管顯示,使您能獲取完整的沉積數據。采用了更的軟件和硬件設備,進一步提高了儀器抗干...10ml注液器 參考價:面議
CY-BD-10ml注液器采用浮動活塞設計,無密封磨損和更換問題,并采用注液數字顯示。50ml注液器 參考價:面議
CY-BD-50ml注液器是數字型注液器,數字顯示消除了人為讀數和計算時產生誤差,且具有體積小、電池壽命長的優點,適用于狹小空間和遠離電源的環境。多通道膜厚監控儀 參考價:面議
適用于普通蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等真空鍍膜厚度測量,特別適合多蒸發源鍍膜機和多腔室鍍膜機進行膜層監控;膜厚監控儀的控制和顯示均通過觸摸屏實現,使您能...膜厚監控儀 參考價:面議
本膜厚監控儀適用于真空電阻熱蒸發、磁控濺射等鍍膜厚度測量,到達設置厚度自動關閉擋板;通過液晶顯示使您能連續獲取完整的沉積數據,包括速率、厚度和晶體振蕩頻率。高純鈷粉 鈷錠 高純鎢鉬鉭鈮鈦 鍍膜耗材 參考價:面議
高純鈷粉還原鈷粉用作硬質合金、金剛石工具、高溫合金、磁性材料等冶金產品,可充電池、工業、火箭燃料和醫藥等化學制品。球形鈷粉主要用焊接材料、噴涂材料以及一些特殊合...納米釕粉-實驗室蒸發鍍膜耗材 參考價:面議
納米釕粉-實驗室蒸發鍍膜耗材用于加工鉬線材、鉬板襯、電子元件、陶瓷金屬化,純鉬或鉬合金燒結制品等的原料,還可用作精密合金的添加劑納米鉬粉 納米鈮粉 納米釕粉 供應特種粉體材料 參考價:面議
納米鉬粉用于加工鉬線材、鉬板襯、電子元件、陶瓷金屬化,純鉬或鉬合金燒結制品等的原料,還可用作精密合金的添加劑。稀散金屬 高質量的金屬碲 二氧化碲 碲粒 碲錠 參考價:面議
碲粉用于半導體器件、制冷器件、合金、化工原料及鑄鐵、橡膠、玻璃等工業的添加劑納米鎢粉 納米碳化鎢粉 參考價:面議
納米鉬粉用于加工鉬線材、鉬板襯、電子元件、陶瓷金屬化,純鉬或鉬合金燒結制品等的原料,還可用作精密合金的添加劑。納米銥粉 納米鎢粉 納米鎳粉 參考價:面議
納米銥粉是抗腐蝕性*強的金屬之一,主要用于飛機火花塞、銥合金、注射針頭、天平刀刃、羅盤支架、電觸頭、銥坩堝。膜厚控制儀 參考價:面議
CY-FDC-S膜厚控制儀適用于電子束鍍膜、磁控濺射、電阻熱蒸發等各種鍍膜厚度控制場合。與蒸發源形成閉環控制,實時控制和顯示完整的鍍膜數據,包括功率、速率、厚度...真空吸筆 參考價:面議
CY-ZKXB-A真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件,能夠避免使用鑷子等傳統工具對樣件造成損壞。可與CY-VTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。真空吸筆 參考價:面議
CY-ZKXB-B真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件,能夠避免使用鑷子等傳統工具對樣件造成損壞。可與VTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。1500℃單溫區φ80管式爐 參考價:面議
該管式爐可以用于抽真空和通氣氛,所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐,廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材...小型旋轉管式爐 參考價:面議
單溫區旋轉管式爐,可實現在氣氛保護的環境下對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。設備采用摩擦傳動,無需額外固定,爐管拆卸方便,便于取放樣品派瑞林真空氣相沉積 參考價:面議
派瑞林真空氣相沉積是一種專業的產品,用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環境中使用氣相化學反應來沉積薄膜的過程。這種技術可以廣泛應用于各種行業,包括電子、光...