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1200℃雙溫區3路浮子供氣高真空CVD系統 參考價：面議
1200℃雙溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由雙溫區管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐兩個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節各個溫區的溫度，該管式爐可以在...
微波燒結爐 參考價：面議
該微波燒結爐可實現快速燒結，比傳統燒結大約要節省2/3的時間。該微波燒結爐是義齒加工****的理想產品。
小型二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
小型高真空二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
多功能鍍膜儀 參考價：面議
多功能鍍膜儀是我公司獨立研發的新型產品，既可進行等離子濺射法鍍膜，也可進行蒸發鍍膜。這款多功能鍍膜儀可以與分子泵或者旋片式真空泵連接以獲取不同的鍍膜環境，已被廣...
高真空多弧離子鍍膜儀 參考價：面議
CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）,制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制...
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 參考價：面議
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上，實驗室多弧離子鍍鍍膜儀十分適合...
多弧離子鍍膜儀 參考價：面議
本設備為多弧離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。本設備配有兩個多...
高溫高壓管式爐 參考價：面議
高溫高壓管式爐主要由：加熱系統、耐高溫高壓爐管和壓力測控系統三大部分構成。可以實現自動沖壓，超壓釋放，自動控溫三大功能。高溫高壓管式爐配有工藝軟件，可實現燒結過...
多溫區管式爐 參考價：面議
多溫區管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度高達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。本套多溫區管式爐為多溫...
單溫區管式爐 參考價：面議
單溫區管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。單溫區管式爐為單溫區加...
1700℃管式爐 參考價：面議
1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件，加熱溫度可高達1700℃，爐管管徑為50mm，采用高純氧化鋁制作，耐高溫性能。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更大...
1500℃管式爐 參考價：面議
1500℃管式爐采用高質量碳硅棒作為加熱元件，加熱溫度可達1500℃，爐管管徑為50mm，采用高純氧化鋁制作，耐高溫性能。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更大管...
1500智能型管式爐（直徑60） 參考價：面議
成越科儀生產的智能型管式爐采用目前***的觸摸屏智能控制技術，整機采用模塊化設計，機械結構合理緊湊。該款智能型管式爐的液晶顯示色彩高達26萬色，不僅色彩艷麗，而...
1700℃智能型真空管式爐（直徑60） 參考價：面議
成越科儀生產的智能型真空管式爐采用目前行的觸摸屏智能控制技術，整機采用模塊化設計，機械結構合理緊湊。該款智能型真空管式爐的液晶顯示色彩高達26萬色，不僅色彩艷麗...
1700單溫區φ50管式爐 參考價：面議
該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納米材料制備、電池材...
1700單溫區φ60真空管式爐 參考價：面議
1700℃單溫區φ60真空管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒...
1700單溫區φ80管式爐 參考價：面議
1700單溫區φ80管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的CVD實驗、真空燒結、納...
雙溫區滑動旋轉管式爐 參考價：面議
雙溫區滑動旋轉管式爐通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，爐體在支架上能夠前后滑動，可以實現快速升降溫，雙溫區滑動旋轉管式爐十分適合在氣氛保護的環境下連續...
200mm大管徑回轉窯爐 參考價：面議
200mm大管徑回轉窯爐配有投料機構和旋轉機構，能夠保證反應連續均勻的發生，200mm大管徑回轉窯爐廣泛應用于鋰電池材料。
1200℃單溫區旋轉管式爐 參考價：面議
1200℃開啟式單溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。如果您需要保持物料的單粒結構（如在干燥或...
ALD原子層沉積系統 參考價：面議
原子層沉積（ALD）系統是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設備，具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統通常用于半導體制造、納米技術、光電器件、以及其他高科技領...
雙溫區CVD系統 參考價：面議
雙溫區CVD系統由1200℃雙溫區管式爐、雙通道質量流量計和低噪音雙極旋片真空泵組成。雙溫區CVD系統管式爐的兩個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節各個溫...
高壓管式爐 參考價：面議
經過我公司工程技術人員的潛心專研，結合材料工藝的研發需求，歷時16個月，成功研發出了一款用于高溫高壓燒結的實驗利器----高壓管式爐。我公司提供的高壓管式爐主要...
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