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PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
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MOCVD金屬有機源氣相沉積系統PX 1950
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PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統PX 1950
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SI 500 DICPECVD 系統PX 1950
PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積PX 1950
PlasmaPro 80ICPCVDPX 1950
PD-100ST等離子體增強CVD系統PX 1950
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PD-220NL化學氣相沉積 (PECVD) 系統PX 1950
PD-2201LC化學氣相沉積 (PECVD) 設備PX 1950
Orion Proxima高密度等離子體化學氣相沉積系統PX 1950
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Scaler HK430熱原子層沉積系統PX 1950
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微波等離子化學氣相沉積系統PX 2549
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NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2549
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