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40噸全自動熒光壓片機 壓樣機 參考價：面議
40噸全自動熒光壓片機 壓樣機，壓片機體積小，壓力大，壓力控制精度高，現已應用于科研、教學、檢測、制藥、催化、化工等各個行業。此外本產品還可與傅立葉紅外光譜儀、...
40噸全自動粉末壓片機 參考價：面議
40噸全自動粉末壓片機，壓片機體積小，壓力大，壓力控制精度高，現已應用于科研、教學、檢測、制藥、催化、化工等各個行業。此外本產品還可與傅立葉紅外光譜儀、熒光光譜...
30噸全自動粉末壓片機 參考價：面議
30噸全自動粉末壓片機，壓片機體積小，壓力大，壓力控制精度高，現已應用于科研、教學、檢測、制藥、催化、化工等各個行業。此外本產品還可與傅立葉紅外光譜儀、熒光光譜...
EDI模塊18兆歐去離子超純水設備 參考價：面議
實驗室用純水機也叫離子水發生器，主要用于清洗各種器皿，樣品。
超聲波極耳金屬點焊實驗設備 參考價：面議
通用于卷繞和疊片工藝的金屬焊接，它體積小、外形美觀、操作方便、結構牢固、使用穩定**等特點。 換能器把超聲頻大功率振蕩信號，變換成相應頻率的機械能，施加到需要焊...
迷你石墨烯CVD設備 參考價：面議
迷你石墨烯CVD設備專為石墨烯生產設計配有高精度質量流量計以及薄膜真空規。迷你石墨烯CVD設備同時設備配有可燃氣體檢測裝置，聯動出氣口電磁閥，一旦出現泄漏電磁閥...
1200℃高真空迷你CVD設備 參考價：面議
1200℃高真空迷你CVD設備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設備包含一臺三路浮子流量計，一臺分子泵組，分別構成了CVD的進氣和...
四通道石墨烯制備設備 參考價：面議
CY-O1200-80-4ZV10四通道石墨烯制備設備除了用于實驗室制備石墨烯外，還可廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗；也可用于：真空燒結、真空...
熱絲化學氣相沉積（HFCVD）金剛石涂層設備 參考價：面議
熱絲化學氣相沉積（Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD）擁有工藝成熟，設備簡單等諸多優點，是工業上應用*多的...
CVD培育鉆石設備 參考價：面議
CVD培育鉆石是一種由直徑10到30納米鉆石晶體合成的多結晶鉆石，它的化學成分為碳，運用的設備模擬大自然中鉆石生長環境，通過化學氣象沉積技術（CVD）栽種而成
MPCVD單晶鉆石沉積設備 參考價：面議
化學氣相沉積法制備高品質單晶鉆石，化學氣相沉積法制備高品質多晶鉆石自支撐厚膜，化學氣相沉積法制備高品質多晶鉆石薄膜
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD） 參考價：面議
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD）是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積生長
PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備 參考價：面議
本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
激光鍍膜設備 參考價：面議
激光鍍膜設備系統由真空腔室（主濺射室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。激光鍍膜設備廣泛應用...
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備 參考價：面議
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備包括三溫區管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備通過特殊設計的管路，能夠將反應氣體均勻的釋放...
R-PECVD?真空旋轉等離子增強CVD設備 參考價：面議
R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備由旋轉及傾斜機構、單溫區管式爐、等離子發生機構、質量流量計供氣系統、高真空分子泵組部分構成。R-PECVD真空旋轉等離...
PLD脈沖激光濺射沉積設備 參考價：面議
該PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格...
二維硫化鉬生長設備 參考價：面議
二維硫化鉬生長設備由預熱爐、反應爐，真空系統、供氣系統以及軌道支架五部分組成。二維硫化鉬生長設備前端配的預熱爐能夠用來預熱蒸發固態源，反應爐能夠提供反應所需的熱...
火焰輔助噴霧熱解設備 參考價：面議
火焰輔助噴霧熱解設備用于研究金屬合金和陶瓷的表面質量。 噴霧熱解是通過在加熱的表面上霧化和噴霧溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應形成化合物。在火焰輔助噴霧熱解中...
40K等離子清洗機 -等離子表面清潔處理設備 參考價：面議
等離子清洗機(plasma cleaner)，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態...
等離子表面處理儀 參考價：面議
等離子表面處理儀是一款用于表面處理的緊湊型大氣等離子體射流（所謂的等離子束，等離子筆）系統，由射頻發生器，柔性氣體輸送管和等離子束頭組成。等離子體射流可以在沒有...
等離子濺射蒸發二合一鍍膜儀 參考價：面議
CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀，可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設備主要由石英真空室、等離...
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化...
等離子濺射和碳蒸發二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和碳蒸發二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發集成到一臺小型機器中。等離子濺射和碳蒸發二合一鍍膜儀專門用...
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