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1500箱式爐31L 參考價：面議
1500箱式爐31L，爐膛尺寸：250mm×250mm×300mm；zui 高溫度：1500℃； 工作溫度：≤1450℃；整機功率：4.8KW；多段程序控溫。
1500℃箱式爐41L 參考價：面議
1500℃箱式爐41L箱式爐,爐膛尺寸：300mm×300mm×400mm；zui 高溫度：1500℃；工作溫度：≤1450℃；整機功率：7.5KW；多段程序控...
三溫區管式爐（配擴散泵合金管） 參考價：面議
本產品特點：電加熱，高真空，三（03）區，臥式，分體式（用于快速冷卻），管式爐。本套管式爐為三溫區加熱，每段的加熱區長可以聯系技術人員進行定制。加熱由精密控溫儀...
離子源電子束蒸發鍍膜儀 參考價：面議
該電子束蒸發方式鍍膜儀，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃...
5×8位PLC控制精密浸涂機 參考價：面議
5×8位PLC控制精密浸涂機是專為研究液相生長薄膜而設計的精密設備，通過垂直提拉樣件在液相中運動而使樣件表面生長薄膜。5×8位PLC控制精密浸涂機采用高精度速度...
PLC控制精密提拉機 參考價：面議
PLC控制精密提拉機是專為研究液相生長薄膜而設計的精密設備，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。PLC控制精密提拉機可對較大的樣品進行涂膜，樣件尺寸可達310...
快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。
桌面RTP快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作
RTP快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐是我公司自主研發的功能強大的加熱設備。RTP快速退火爐采用進口紅外加熱管加熱，造型新穎結構合理，爐體和爐管可以自由滑動，可實現快速升降溫。
鹵素燈RTP退火爐 參考價：面議
鹵素燈RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現真正的基底溫度測量，不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，客戶包...
鹵素燈RTP立式快速退火爐 參考價：面議
鹵素燈RTP立式快速退火爐是一款8寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現真正的基底溫度測量，不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，...
高真空RTP快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐由我公司自主研發的功能強大的加熱設備。該產品采用進口紅外線加熱管加熱，造型新穎結構合理，爐體和爐管可以自由滑動，可實現快速升降溫
3D打印真空退火爐 參考價：面議
3D高真空退火爐應用范圍:陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材的退火。做真空釬焊、真空燒結、真空脫脂、真空退火等
1200℃RTP退火爐 參考價：面議
1200℃RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現真正的基底溫度測量，不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，客...
RTP快速退火爐管式 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。RTP快速退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物
RTP快速退火爐管式 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
管式RTP快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP（快速退火爐）是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝.
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP（快速退火爐）是一種用于半導體制造和材料處理的設備，快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝.
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，快速退火爐其核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
磁控濺射鍍膜加熱臺 參考價：面議
加熱臺主要用于CY-VTC-600-2HD雙靶、CY-VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及CY-GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀的樣品臺的加熱。
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