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KLA/科磊

方塊電阻測量儀 薄膜厚度測量儀 表面缺陷檢測系統 納米壓痕儀 光學輪廓儀 探針式輪廓儀

薄膜測量系統

接觸角測量系統 光譜反射儀 橢偏儀 薄膜應力測量系統

微組裝系統

WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統

AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統

批量型兆聲清洗系統

測量儀器

聲表面波SAW功率發生器

ECOPIA/韓國

HMS-3300霍爾效應測試儀 HMS-3000霍爾效應測試儀

Etching/等離子蝕刻系統

等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統

高密度化學氣相沉積系統 PECVD沉積

美國杜邦Dupont

光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統

等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺

磁體探針臺 低溫探針臺

紫外掩膜對準曝光系統

紫外掩膜對準曝光系統 紫外掩膜曝光機

快速退火爐

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生命科學

人體運動能耗監測儀

PIE scientific/美國

Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機 離子源 氣體混配器 多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic/法國

檢測相機 返工工作站 激光疊片機 / 拆片機 劃刻器 MPT手動拉力測試儀 焊線機 芯片鍵合機

OAI/美國

Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統 MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計 太陽能電池高性能測試夾具 太陽能功率計 集成式 IV 光伏測試系統 AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

Unitemp/德國

RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統 2Z-HVS-200 高真空封裝機 2Z-HVS-100 高真空封裝機 VSS-650 真空焊接系統 RSS-3X210 緊湊型回流焊系統 RSO-300 真空燒結爐回流焊系統 RSO-210 真空燒結爐回流焊系統 VSS-450-300 臺式真空燒結爐 RSS-210-S 臺式真空燒結爐回流焊系統 RSS-110-S 迷你真空燒結爐回流焊系統 RSS-160-S 迷你真空燒結爐回流焊系統

NanoMagnetics/英國

USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動樣品磁力計 LT-AC/DC 臺式霍爾效應測量系統 XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡 光霍爾效應測試儀 納秒瞬態吸收光譜儀

Reflow Oven /回流焊

高真空MEMS焊封機

EXADDON

CERES 微納米級純金屬3D打印系統

ANRIC

AT650/850T 臺式熱原子層沉積設備 AT650/850P 臺式等離子 ALD AT410 經濟型 ALD 系統 AT 200M 經濟型 ALD 系統

KLA-Tencor

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NanoMagnetics

JFP microtechnic

其他品牌

UNITEMP/尤尼坦

DuPont/杜邦

ANRIC

PIE scientific

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