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桌面型石英腔體小型蒸發鍍膜儀 參考價：38000
本產品為桌面型石英腔體小型蒸發鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀 參考價：38600
本產品為桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
桌面型不銹鋼腔體蒸發鍍膜儀 參考價：98000
本產品為專為高真空設計的桌面型不銹鋼腔體蒸發鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
桌面型三源蒸發鍍膜儀 參考價：86000
熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。桌面型三源蒸發鍍膜儀在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從...
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 參考價：58900
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
三源高真空熱蒸發鍍膜儀 參考價：235600
三源高真空熱蒸發鍍膜儀應用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 參考價：189000
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜，該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好
桌面型不銹鋼腔體熱蒸發鍍膜儀 參考價：58000
桌面型不銹鋼腔體熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉...
小型高真空熱蒸發鍍膜儀 參考價：36000
本產品為專為高真空設計的小型高真空熱蒸發鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
小型溫控蒸發鍍膜儀 參考價：39800
小型溫控蒸發鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
多源高真空蒸發鍍膜儀 參考價：225600
本設備為多源高真空蒸發鍍膜儀，設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式...
卷繞式高真空蒸發鍍膜儀 參考價：258000
卷繞式高真空蒸發鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長，大多數金屬和某些有機材料薄膜，如金屬、半導體、氧化物等
帶手套箱三源蒸發鍍膜儀 參考價：225600
帶手套箱三源蒸發鍍膜儀，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等
OLED有機無機蒸發鍍膜系統配手套箱 參考價：289000
OLED有機無機蒸發鍍膜系統配手套箱，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等
手套箱用小型蒸發鍍膜儀 參考價：38000
手套箱用小型蒸發鍍膜儀可進行真空蒸鍍，鍍膜電流最大可達100A，本型號的小型蒸發鍍膜儀應用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和...
5英寸近距離蒸發鍍膜爐用于鈣鈦礦電池薄膜 參考價：158000
5英寸近距離蒸發鍍膜爐用于鈣鈦礦電池薄膜適用于薄膜太陽能電池,如CdTe.硫化物和鈣鈦礦結構太陽能電池,這是一款理想的實驗工具
半導體薄膜電子束蒸發鍍膜儀 參考價：350000
半導體薄膜電子束蒸發鍍膜儀，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：154600
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款...
帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：286000
本設備為帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：98000
本設備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀 參考價：280000
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩定性能...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：198500
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄...
單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89700
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可根據需要分別手...
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