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單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89700
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可根據需要分別手...
大功率直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：89000
大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機 ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機和可旋轉樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設計用于涂覆直徑達4英寸的所有金...
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 參考價：198000
桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機構，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：168900
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制...
真空磁控鍍膜儀腔體 參考價：58000
該真空磁控鍍膜儀腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學沉積 (CVD)、等離子體化學沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價：68900
本設備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合...
桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
本設備為桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設備同時配有偏壓電源，可以用來進行進行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
本設備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89500
本設備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型） 參考價：58900
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型）。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去...
桌面型單靶磁控鍍膜儀 參考價：98750
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升...
粉體包覆機磁控濺射鍍膜機 參考價：256900
粉體包覆機磁控濺射鍍膜機是通過粉未在濺射腔室內的旋轉，以達到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：98000
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室...
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀 參考價：198700
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1“射頻等離子體磁控濺射系統，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本...
桌面型靶下置型磁控鍍膜儀 參考價：68000
本設備為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快...
行星式單靶磁控鍍膜儀 參考價：58000
本設備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復雜樣品臺的功能型。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求，...
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀 參考價：58900
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優異。本設...
桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀 參考價：32500
本設備為桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速...
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：356000
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：159800
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價：298000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制 參考價：198000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：156200
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實...
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